Kakšna je razlika med orientiranim elektro jeklom in neorientiranim elektro jeklom?

Kakšna je razlika med orientiranim elektro jeklom in neorientiranim elektro jeklom?

1 sta oba hladno valjana silicijeva jeklena pločevina, vendar je vsebnost silicija drugačna. Vsebnost silicija v hladno valjani neorientirani pločevini iz silicijevega jekla je 0.5%-3.0%, vsebnost silicija v hladno valjani orientirani pločevini iz silicijevega jekla pa je več kot 3.0%.
2, proizvodni proces in zmogljivost različnih: neorientirane silicijeve jeklene pločevine kot usmerjene silicijeve jeklene pločevine so zahteve glede postopka relativno nizke. Neorientirana silicijeva jeklena pločevina je vroče valjana gredica ali gredica za kontinuirno litje v debelino približno 2,3 mm tuljave. Pri izdelkih z nizko vsebnostjo silicija se vroče valjani zvitki po luženju hladno valjajo na debelino 0,5 mm. Pri izdelavi izdelkov z visoko vsebnostjo silicija, po dekapiranju z vročim valjanjem (ali po normalizaciji pri 8{{10}}0 ~ 850 stopinj in nato luženju), hladno valjanje na {{24 }}.55 ali 0.37 mm debeline, žarjenje pri 850 stopinjah v neprekinjeni peči z atmosfero mešanice vodika in dušika in nato hladno valjanje na 0,50 ali 0,35 mm debeline s 6 ~ 10 % stopnjo nizkega tlaka. Ta majhna stopnja zmanjšanja pri hladnem valjanju lahko poveča velikost zrn in zmanjša izgubo železa med žarjenjem. Obe hladno valjani plošči sta končno žarjeni pri 850 stopinjah v neprekinjeni peči v atmosferi zmesi 20 % vodika in dušika, nato pa prevlečeni s fosfatno in kromatno izolacijsko folijo. Po hladnem valjanju do debeline končnega izdelka je stanje dobave večinoma 0,35 mm in 0,5 mm debel jekleni trak. Bs hladno valjanega neorientiranega silicijevega jekla je višji kot pri orientiranem silicijevem jeklu.
Usmerjena pločevina iz silicijevega jekla zahteva nizko vsebnost vključkov jeklenega oksida in mora vsebovati C{{0}}.03 ~ 0,05 % in inhibitorje (razpršeni delci druge faze ali segregacijski element meje zrn).

Učinek inhibitorja je preprečiti rast primarnega rekristalizacijskega zrna in spodbujati razvoj sekundarne rekristalizacije, s čimer se pridobi visoka (110)[001] orientacija. Sam inhibitor je škodljiv za magnetizem, zato ga je treba po končani inhibiciji očistiti in žariti pri visoki temperaturi. Ko se uporabi zaviralec druge faze, je treba temperaturo segrevanja plošče zvišati, da se prvotna groba delci druge faze trdno raztopijo, nato pa se drobni delci oborijo med vročim valjanjem ali normalizacijo, da se poveča učinek zaviranja. Hladno valjani končni izdelek debeline 0.28, 0.30 ali 0,35 mm. Hladno valjani usmerjeni tanek silicijev jekleni trak je 0,30 ali 0,35 mm debel orientiran silicijev jekleni trak, ki se nato izvede luženje, hladno valjanje in žarjenje. V primerjavi s hladno valjanim neorientiranim silicijevim jeklom je izguba orientiranega silicijevega jekla veliko manjša kot pri neorientiranem silicijevem jeklu, magnetne lastnosti pa so močno usmerjene. Ima vrhunske lastnosti visoke prepustnosti in nizke izgube v smeri valjanja, ki se zlahka magnetizira. Izguba železa pri usmerjenem jeklenem traku v smeri valjanja je le 1/3 prečne, razmerje prepustnosti je 6:1, izguba železa je približno 1/2 vroče valjanega traku, prepustnost pa je 2,5-krat večja od slednje.
3, zmogljivost in uporaba: zaradi različnih značilnosti delovanja obeh obstajajo razlike v smeri uporabe hladno valjane neorientirane pločevine iz silicijevega jekla, najpomembnejša uporaba je za proizvodnjo generatorjev, zato je znana tudi kot hladno -valjano motorno silikonsko jeklo. Glavna uporaba hladno valjanega orientiranega silicijevega jeklenega traku je za proizvodnjo transformatorjev, zato se imenuje tudi hladno valjano transformatorsko silicijevo jeklo.